不锈钢屏风如何等离子镀色?

2019年04月25日

不锈钢屏风如何等离子镀色?

 

 1,真空镀膜是在真空环境中,将膜材气化并沉积到固体基材上形成固态薄膜的方法。

真空镀膜是在生长薄膜的重要方法,几乎所有类型的薄膜都可以用真空镀膜方法制备。,

2,真空镀膜技术一般分为两大类,即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。

物理气相沉积技术是指在真空条件下,利用各种物理方法,将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子,直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得,它利用某种物理过程,如物质的热蒸发,或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象,实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时,物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下,因此可作为最终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物理气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能,人们在竞相开发高性能、高可靠性设备的同时,也对其应用领域的扩展,尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。

化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体,借助气相作用或基体表面上的化学反应,在基体上制出金属或化合物薄膜的方法,主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。

3,真空镀膜的特点

真空镀膜和其他镀膜方式相比较具有以下特点:

(1)真空镀膜可以在固态基础上镀制金属、合金、半导体薄膜及各种化合物薄膜,薄膜的成分可以在大范围内调控。

(2)真空镀膜可以镀制高纯度、高至密度、与基础结合力强的各种功能薄膜、电子薄膜、光学薄膜。特别是大规模集成电路、小分子有机显示器件、硅太阳能电池等很多器件所需的主体薄膜只能在真空条件下制备,其他制膜技术无法满足要求。

(3)真空镀膜对环境的污染小,特别是PVD方法,对环境基本没有污染。用化学方法制备薄膜时,一方面膜自身受到制膜所使用的溶剂污染,性能降低,另一方面反应废弃物对环境也会造成污染。

(4)真空镀膜的主要缺点是需要真空设备,相对来说成本比较高!

而冠邦不锈钢拥有数套PVD真空离子镀设备

因其工艺流程复杂、环境、设备要求高,单价比水电镀昂贵。

可以镀制的颜色多彩,包括水镀中常见的黑钛色,真空离子电镀也能实现。定制黑钛时请注明是需求水镀还是电镀哦!
来源:佛山市冠邦艺术不锈钢有限公司
产品名
价格